Fujifilm Polska przedstawił najnowszą termoczułą płytę negatywową Brillia LH-NI3. Płyta ta doskonale nadaje się do bardzo dużych nakładów, przekraczających nawet jeden milion odbitek. Przeznaczona jest do drukowania komercyjnego. Brillia LH-NI3, podobnie jak LH-PJE, współpracuje z inteligentnym procesorem ZAC działającym w innowacyjnej technologii low-chem. 80% redukcja chemii zużywanej w trakcie procesu wywoływania, pozwala zmniejszyć ilość generowanych odpadów.
Brillia LH-NI3, tak jak wszystkie płyty termoczułe Fujifilm, pokryta jest podwójną fotoczułą powłoką, zapewniającą trwałość oraz odporność mechaniczną. Powstałe z niej formy drukowe można stosować także przy drukowaniu farbami UV. Cechy te wyróżniają LH-NI3 spośród produktów istniejących na rynku poligraficznym.
Wysoka czułość płyty Brillia LH-NI3, pozwala osiągnąć doskonałą wydajność, przy jednoczesnej oszczędności energii zużywanej przez naświetlarkę. LH-NI3 umożliwia drukowanie o bardzo dobrej jakości, również przy użyciu rastra częstotliwościowego FM.
Źródło: Fujifilm